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Larghezza di lavoro: 5 mm - 200 mm
... Viene utilizzata principalmente per la lappatura e la lucidatura bilaterale di metalli, non metalli, zaffiri e materiali semiconduttori, con funzione di raffreddamento del disco e pressione dell'air bag ...
... l'incisione e il trattamento di pulizia Pulizia a nano-bolle per ottenere una pulizia efficiente della superficie del wafer di silicio Con area di lavaggio a secco e sistema di autopulizia Evita la contaminazione incrociata e la reazione ...
... gallio, silicio, roccia e terra. La macchina PM6 è ampiamente utilizzata in: La preparazione di sezioni sottili geologiche: ad esempio, il sistema di lappatura delle rocce Preparazione di materiali semiconduttori: lucidatura ...
... Queste macchine sono macchine di lucidatura a due assi ad alta precisione su un solo lato; la testa di lucidatura può ruotare, oscillare e lavorare in condizioni di alta pressione e alta velocità, può lucidare uno o più ...
... Il JX300FP è un'unità CMP da 12 pollici all'avanguardia, sviluppata sulla base della tecnologia CMP avanzata di ATW JX, per rispondere alle esigenze più innovative del settore. Questa apparecchiatura è dotata di unità di lucidatura ad alte prestazioni ...
Wuxi Autowell Technology Company
... L'FTB150MP è un sistema CMP da 6 pollici progettato per applicazioni di laboratorio in base alle esigenze dei clienti. È compatibile con vari materiali e dispone di unità di lucidatura ad alte prestazioni per ottenere una planarità superficiale del wafer ...
Wuxi Autowell Technology Company
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