Macchina lucidatrice per cristalli JX300FP

in silicioper waferindustriale

Il JX300FP è un'unità CMP da 12 pollici all'avanguardia, sviluppata sulla base della tecnologia CMP avanzata di ATW JX, per rispondere alle esigenze più innovative del settore. Questa apparecchiatura è dotata di unità di lucidatura ad alte prestazioni e integra una tecnologia avanzata di pulizia combinata, garantendo risultati di pulizia superiori. Consente la planarizzazione globale dei substrati a livello nanometrico, soddisfacendo i requisiti delle tecnologie di processo avanzate. Dimensioni del wafer ≤12 pollici GBIR ＜100 nm Testa di lucidatura 3-8 zone Caricamento e scaricamento Dry-in/Dry-out Oltre i metodi convenzionali Integrazione di lucidatura e pulizia in un unico processo, combinando i vantaggi tecnologici, con la stabilità come fondamento e l’innovazione come punto di forza Elevata produttività Dotata di 8 teste di lucidatura e 3 stazioni di lavoro per una maggiore produttività. Testa di lucidatura multizona Pressione regolabile da 3 a 8 zone, che consente un controllo altamente preciso del profilo superficiale. Unità di pulizia integrata Dotata di tecnologia di pulizia avanzata, garantisce un processo "dry-in" e "dry-out".