Sistemi di analisi dei gas residui per l'analisi dei processi sotto vuoto
La serie HPR-30 è un sistema di analisi dei gas residui configurato per l'analisi di gas e vapori nei processi sotto vuoto e per la diagnostica del vuoto con capacità di campionamento dall'alto vuoto alla pressione atmosferica. I sistemi sono completamente configurabili per applicazioni di processo individuali come CVD, ALD, plasma etching, MOCVD, purezza dei gas di processo e monitoraggio dei contaminanti nel processo.
Caratterizzazione del plasma
Liofilizzazione
CVD / MOCVD / ALD
Trattamento sotto vuoto
Analisi dei gas residui
XPS vicino all'atmosfera, APXPS
Rivestimento ottico a film sottile
I sistemi della serie HPR-30 sono progettati per l'analisi ad alta sensibilità e a risposta rapida di specie di gas e vapori nei processi sotto vuoto. Le applicazioni includono il rilevamento di perdite, il monitoraggio della contaminazione, l'analisi delle tendenze di processo e l'analisi di specie e precursori ad alta massa utilizzati in applicazioni ALD e MOCVD, ad esempio.
Le configurazioni di campionamento sono offerte come:
Carrello HPR-30 con ingresso di campionamento a doppia conduttanza dotato di un'apertura rientrante ad accoppiamento stretto per il campionamento direttamente all'interno della regione di processo, fornendo la massima integrità dei dati e una rapida conferma dello stato del processo.
HPR-30 Carrello a più ingressi con più ingressi flessibili, lungo 1 m e collegamento al collettore a tre valvole con commutazione automatica per l'analisi su un'ampia gamma di pressioni di processo.
HPR-30 SGL con una singola linea di campionamento riscaldata per applicazioni in cui lo spazio per il collegamento del campionamento è limitato e dove l'esigenza di analizzare prodotti di reazione meno volatili richiede una soluzione con ingresso completamente riscaldato. L'acquisizione dei dati con risoluzione temporale adatta al monitoraggio del processo di deposizione pulsata è offerta come opzione di sistema.
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