Spettrometro di massa PSM

quadripolareper la chimicadi processo

Un analizzatore di massa ed energia per la diagnostica del plasma Le sonde di plasma Hiden misurano alcuni dei parametri chiave del plasma e forniscono informazioni dettagliate sulla chimica delle reazioni del plasma. Caratterizzazione del plasma Incisione al plasma e ALE HiPIMS Rivestimenti di carbonio simile al diamante (DLC) Rivestimenti con deposizione laser pulsata (PLD) Deposizione con magnetron DC di film di SiBCN Un'ampia gamma di processi industriali utilizza i plasmi elettrici e nuove applicazioni si stanno sviluppando rapidamente. Nell'industria microelettronica, la richiesta di rendimenti più elevati e la riduzione delle geometrie dei dispositivi rendono fondamentali la riproducibilità e la comprensione dei processi. La comprensione dettagliata della cinetica di reazione degli ioni del plasma e delle specie neutre gioca un ruolo chiave nello sviluppo di processi avanzati di ingegneria delle superfici, come l'HIPIMS. Collettore a pompaggio differenziale con flangia di montaggio alla camera di processo Quadrupolo a triplo filtro ad alta sensibilità/stabilità, opzioni di massa fino a 510amu Rivelatore per il conteggio degli ioni a impulsi con intervallo dinamico di 7 decadi Opzione di analisi dell'energia con scansione del bias di polo 100eV Ottica di estrazione/esclusione degli ioni con ionizzatore integrale sintonizzabile per la MS a potenziale d'aspetto Manometro di penning e interblocchi per la protezione da sovrapressione Gating del segnale e opzione di gating del segnale programmabile per studi risolti nel tempo in plasma pulsato Analisi di neutri e radicali come standard, opzione di analisi ionica +ve / -ve Opzioni di schermatura Mu-Metal, Radio-metal, opzioni di funzionamento ad alta pressione Controllo MASsoft via RS232, RS485 o Ethernet LAN