Sistema a fascio ionico focalizzato MI4050

Il sistema a fascio ionico focalizzato ad alte prestazioni MI4050 è dotato di nuove ottiche e offre una risoluzione di imaging SIM leader a livello mondiale e una preparazione dei campioni TEM ad alta definizione con una migliore risoluzione di imaging a bassi kV. Il sistema MI4050 è adatto a una varietà di applicazioni come l'osservazione di sezioni trasversali, la modifica di circuiti, l'elaborazione di scansioni vettoriali, la modellazione nano-micro, il nano stampaggio e la fabbricazione di nano 3D con funzione di deposizione. Tempo di elaborazione notevolmente ridotto grazie alla grande corrente della sonda (corrente massima della sonda 90 nA) Elaborazione trasversale di wire bonding (dimensioni di lavorazione: L: 95 µm, P: 55 µm; tempo di lavorazione: 20 min) Preparazione del campione TEM a bassissimo danno grazie alla lavorazione a bassa tensione (0,5 kV o superiore) e migliore risoluzione dell'immagine dell'elettrone secondario a bassa tensione *Meno di 1 kV è opzionale Palcoscenico meccanico eucentrico motorizzato a 5 assi di alta precisione Lo stadio eucentrico consente all'utente di specificare con maggiore precisione le coordinate per ottenere un allineamento più preciso per l'imaging e la preparazione dei campioni TEM a elaborazione continua.