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Macchina per deposizione per polverizzazione catodica a magnetron UNIvapper evaporazione termicaassistita da un fascio di ionidi film sottili
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Caratteristiche
- Tecnologia
- per polverizzazione catodica a magnetron, per evaporazione termica, assistita da un fascio di ioni
- Tipo di deposito
- di film sottili
- Altre caratteristiche
- sottovuoto
- Applicazioni
- per l'industria microelettronica, per applicazioni fotovoltaiche
Descrizione
- Sistema autonomo
- Soluzione compatta ed economica
- Facile configurazione
- Possibilità di co-deposizione
- Uniformità fino a +/-3 % (con progettazione di geometrie specifiche fino a +/1 %)
- Due dimensioni standard: UNIvap 4S e UNIvap 5S
- Fino a 8 sorgenti di deposizione possibili
- Dimensioni del substrato fino a 100x100 mm o diam. 100 mm (4") per UNIvap 4S
- Dimensioni del substrato fino a 150x150 mm o diam. 150 mm (6") per UNIvap 5S
- OLED/Elettronica organica
- OPV
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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.