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Macchina per deposizione per polverizzazione catodica OPTIvapper evaporazione termicaassistita da un fascio di ionidi film sottili
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Caratteristiche
- Tecnologia
- per polverizzazione catodica, per evaporazione termica, assistita da un fascio di ioni
- Tipo di deposito
- di film sottili
- Altre caratteristiche
- sottovuoto
- Applicazioni
- per l'industria microelettronica, per applicazioni fotovoltaiche
Descrizione
- Sistema flessibile e modulare
- Stand-alone (S) o integrato nel glovebox (G)
- Blocco di costruzione per strumenti cluster
- Processi multi-substrato e multi-mascheramento
- Uniformità standard: +/- 3 % (con progettazione di geometrie specifiche fino a +/1 %)
- Dimensioni del substrato fino a 150x150 mm o diam. 150 mm (6") per OPTIvap 4
- Dimensioni del substrato fino a 200x200 mm o diam. 280 mm (8") per OPTIvap 6
- Dispositivi multistrato complessi (OLED, OPV)
- Strati ottici
- Semiconduttore, PV
- OLED/Elettronica organica
- OPV
- Batterie
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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.