Macchina per deposizione PVD RTSP1000
PECVDper polverizzazione catodica a magnetrontramite evaporazione ad arco

Macchina per deposizione PVD - RTSP1000 - Shanghai Royal Technology Inc. - PECVD / per polverizzazione catodica a magnetron / tramite evaporazione ad arco
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Caratteristiche

Metodo
PVD, PECVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica a magnetron, tramite evaporazione ad arco, assistita da un fascio di ioni
Tipo di deposito
di film sottili, di carbonio con struttura a diamante
Altre caratteristiche
sottovuoto
Applicazioni
per l'industria microelettronica, per modulo fotovoltaico

Descrizione

Il campo chiuso ha squilibrato il magnetron che farfuglia il sistema del deposito, magnetron squilibrato che farfuglia la placcatura dello ione I processi squilibrati e chiusi del magnetron del campo presentano tutti i vantaggi dei magnetron planari. I vantaggi e gli svantaggi supplementari sono: -Bombardamento supplementare dello ione con conseguente film densi e aderenti -Aiuto dello ione e pulizia del substrato possibile -Migliore tribologico, usura e film resistenti alla corrosione -Favorevole ai film a più strati, di superreticolo, nanolaminant e del nanocomposite -Uso di materiali più difficile -Configurazione/spesa più complesse del catodo Magnetron squilibrato e chiuso del campo che farfuglia le proprietà rivoluzionate realizzabili dal magnetron che farfuglia i processi. Come riuscito con il film sottile migliore tribologico, la resistenza della corrosione e le proprietà ottiche come questa tecnologia erano, miglioramenti nella tecnologia del magnetron appena avevano cominciato. Blog che seguente passiamo alle applicazioni di risultato e del film sottile cilindrico di processi del magnetron e della rotazione.

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