Macchina per deposizione PVD Multi950
PECVDper polverizzazione catodica a magnetrontramite evaporazione ad arco

Macchina per deposizione PVD - Multi950 - Shanghai Royal Technology Inc. - PECVD / per polverizzazione catodica a magnetron / tramite evaporazione ad arco
Macchina per deposizione PVD - Multi950 - Shanghai Royal Technology Inc. - PECVD / per polverizzazione catodica a magnetron / tramite evaporazione ad arco
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Caratteristiche

Metodo
PVD, PECVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica a magnetron, tramite evaporazione ad arco, assistita da un fascio di ioni
Tipo di deposito
di strati sottili di silicio, di pellicola metallizzata, per rivestimento in alluminio
Altre caratteristiche
sottovuoto, a ciclo breve, in linea
Applicazioni
per l'industria microelettronica, per optoelettronica, per applicazioni fotovoltaiche, per modulo fotovoltaico

Descrizione

La macchina Multi950 è un sistema su misura del deposito di vuoto di funzioni di multiplo per R & S. Con la discussione del mezzo anno con il gruppo dell'università di Shanghai al piombo dal professor Chen, infine abbiamo confermato la progettazione e le configurazioni per compiere il loro le applicazioni di R & S. Questo sistema può depositare il film trasparente di DLC con il processo di PECVD, i rivestimenti duri sugli strumenti ed il film ottico con farfugliare il catodo. Sulla base di questo concetto di progetto a macchina pilota, abbiamo messo a punto altri 3 sistemi del rivestimento dopo poi: 1. Rivestimento bipolare del piatto per i veicoli elettrici FCEV1213 di Fuel Cell, 2. ceramico diriga il rame placcato DPC1215, 3. sistema flessibile RTSP1215 farfugliare. Questi 4 modelli a macchina sono tutti con la camera ottale, flessibile e le prestazioni affidabili sono utilizzate estesamente nelle varie applicazioni. Soddisfa i processi di rivestimento richiede i multi strati differenti del metallo: Al, Cr, Cu, Au, AG, Ni, Sn, ss e molti altri metalli non-feeromagnetic; più l'unità di fonte di ione, migliori efficientemente l'adesione dei film sui materiali differenti del substrato con la sua prestazione incisione del plasma e, il processo di PECVD per depositare alcuni a strati basati a carbonio. Il Multi950 è la pietra miliare dei sistemi di rivestimento avanzati di progettazione per tecnologia reale. Qui, noi studenti universitari riconoscenti di Shanghai di ringraziamenti e particolarmente Yigang trattato Chen, la sua dedica creativa e generosa siamo i valori illimitati ed abbiamo ispirato il nostro gruppo.
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.