Generatore plasma PECVD TruPlasma DC 4000 (G2)

PVD

I generatori TruPlasma DC Serie 4000 (G2) sono stati sviluppati specificamente per lo sputtering reattivo CC di materiali difficili. I generatori funzionanti con corrente continua pulsata sono ampiamente collaudati soprattutto per i processi PVD e PECVD critici, in cui vengono richieste contemporaneamente massima qualità dello strato superficiale e massima produttività. Le compatte alimentazioni elettriche CC possono essere impiegate sia in esercizio pulsato, sia in esercizio Bias - praticamente, due apparecchi in un unico alloggiamento. Elevata qualità dello strato e grande produttività Grazie al dispositivo di elaborazione digitale dei segnali, i processi risultano stabili e si riducono al minimo i ritardi causati dagli archi. Risultati ottimi anche in processi di critici La combinazione fra la gestione rapida degli archi e la tecnologia a CC pulsata riduce i danneggiamenti del substrato. Adattamento semplice al processo Grazie all'ampio spettro di frequenze e alla tensione inversa adattabile. Struttura compatta e robusta Il raffreddamento ad acqua integrato permette di risparmiare spazio e di ridurre i costi per la manutenzione.