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... brevettata TRUMPF Hüttinger e la CombineLine per processi
plasma stabili.
Funzioni principali
- Smart Auto Frequency Tuning (AFT): accordo di frequenza rapido e ottimale tra generatore e matchbox.
- Arc
TRUMPF lasers
... Panoramica
I TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) sono
generatori di impulsi bipolari progettati per processi di deposizione assistita da
plasma quali PVD,
PECVD e sputtering reattivo. Offrono ...
TRUMPF lasers
... Panoramica
Generatore di
plasma a microonde a stato solido, progettato per ottenere elevatissime densità di
plasma e soddisfare requisiti di processo industriali esigenti. La serie TruPlasma ...
TRUMPF lasers
... ambiente, idoneo per camere bianche.
Applicazioni I
generatori TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) sono progettati per processi
plasma quali RIE, ALD,
PECVD e sputtering RF. ...
TRUMPF lasers
... br>
- Serie: TruPlasma RF Serie 3000
- Tecnologia: generatori ad alta frequenza (HF) per eccitazione plasma
- Applicazioni: RIE, ALD, PECVD, sputtering RF, incisione al plasma,
TRUMPF lasers
... sputtering reattivo di materiali difficili. Supporta sia la modalità pulsata sia la modalità Bias, garantendo un plasma stabile per processi PVD e PECVD critici e riducendo i tempi di fermo dovuti ad archi e i danni al ...
TRUMPF lasers
... alimentatori del TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) sono stati sviluppati specificamente per il rivestimento al plasma tramite processi PVD, PECVD e sputtering reattivo e con segnali d'uscita di forme flessibili e una ...
TRUMPF Power electronics
... I generatori TruPlasma DC Serie 4000 (G2) sono stati sviluppati specificamente per lo sputtering reattivo CC di materiali difficili. I generatori funzionanti con corrente continua pulsata sono ampiamente collaudati soprattutto ...
TRUMPF Power electronics
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