Generatore plasma industriale TruPlasma RF Air Sériés 1000
per trattamento di superficiecontrollabile tramite PCprogrammabile

Generatore plasma industriale - TruPlasma RF Air Sériés 1000 - TRUMPF lasers - per trattamento di superficie / controllabile tramite PC / programmabile
Generatore plasma industriale - TruPlasma RF Air Sériés 1000 - TRUMPF lasers - per trattamento di superficie / controllabile tramite PC / programmabile
Aggiungi ai preferiti
Confronta con altri prodotti

Caratteristiche

Tipo
industriale, per trattamento di superficie, controllabile tramite PC, programmabile, radiofrequenza
Velocità di indurimento
PVD, PECVD

Descrizione

Panoramica
Il generatore RF raffreddato ad aria TruPlasma RF 1001 Air eroga fino a 1000 W di potenza RF dosata con precisione e riproducibile, con risoluzione di 0,1 W (step da 100 mW). Progettato per semiconduttori, celle solari e display, integra la tecnologia brevettata TRUMPF Hüttinger e la CombineLine per processi plasma stabili.

Funzioni principali
  • Smart Auto Frequency Tuning (AFT): accordo di frequenza rapido e ottimale tra generatore e matchbox.
  • Arc management ad alta precisione: rilevamento precoce degli archi e protezione dei processi sensibili.
  • Multi‑Level Pulsing: forme d'impulso multi‑livello configurabili per controllo avanzato del processo.
  • Modularità Plug & Play: modulo inseribile ½‑19" per sostituzione e retrofit semplificati.
  • Uscita reale 50 Ω (CombineLine): potenza di processo uniforme e minore sensibilità alle variazioni di carico.
  • Famiglia di generatori uniforme: stessa tecnologia su diverse classi di potenza per integrazione facilitata.
  • Indipendenza dalla lunghezza del cavo RF: nessuna regolazione della lunghezza del cavo dopo modifiche di sistema.


Applicazioni
  • Reactive‑ion etching (RIE)
  • Atomic layer deposition (ALD)
  • Plasma‑enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
  • RF sputtering
  • Produzione di semiconduttori, MEMS, display a schermo piatto e celle solari


Vantaggi per il cliente e funzioni di sistema
  • Alta ripetibilità: dosaggio energetico in step da 100 mW per consistenza wafer‑to‑wafer.
  • Design compatto e salvaspazio: modulo inseribile ½‑19" adatto a nuovi impianti e retrofit.
  • Ampia gamma di interfacce per integrazione: I/O analogico configurabile, Ethernet, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT.
  • Supporto TRUMPF SystemPort: controllo in anello chiuso, misure RF in tempo reale ingresso/uscita matchbox, protezione e monitoraggio del processo.
  • Funzioni digitali di processo: AFT 2.0, arc management, Multi‑Level Pulsing per adattamento fine ai requisiti di processo.


Specifiche tecniche
  • Classe di potenza: fino a 1000 W (TruPlasma RF 1001 Air)
  • Risoluzione potenza: 0,1 W (step da 100 mW)
  • Raffreddamento: raffreddato ad aria
  • Impedenza di uscita: 50 Ω reale (CombineLine)
  • Impulsazione: multi‑level, forme d'impulso liberamente selezionabili
  • Auto Frequency Tuning: Smart AFT per accordo rapido generatore–matchbox
  • Formato: modulo inseribile compatto ½‑19"
  • Interfacce: I/O analogico configurabile, Ethernet, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT
  • Controllo di sistema: TRUMPF SystemPort per controllo in anello chiuso e misurazioni in tempo reale

Cataloghi

Nessun catalogo è disponibile per questo prodotto.

Vedi tutti i cataloghi di TRUMPF lasers
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.