PanoramicaCon questi generatori ad alta frequenza andate sul sicuro: la serie TruPlasma RF 3000 si contraddistingue per la struttura robusta e per l'elevata efficienza. I generatori garantiscono processi al plasma stabili e riproducibili, adatti alla produzione di schermi piatti, celle solari e semiconduttori. Installati in migliaia di applicazioni, assicurano alta produttività e risultati di processo eccellenti.
Punti di forza- Elevata efficienza energetica: rendimenti fino all'80% che permettono di ridurre i costi elettrici.
- Eccellente gestione degli archi RF: conduzione sicura anche di processi complessi e di nuovo tipo.
- Elevata robustezza e stabilità di processo: tecnologia CombineLine per protezione da potenze riflesse in caso di disadattamento.
- Massima flessibilità: erogazione continua o pulsata di potenza per impiego versatile.
Applicazioni tipiche- Processi di incisione e rivestimento (incisione al plasma, incisione ionica reattiva - RIE).
- Processi ALD (Atomic Layer Deposition) e PECVD.
- Sputtering RF e rivestimento di schermi piatti e celle solari.
- Processi nell'industria dei semiconduttori e dell'elettronica.
Funzionalità di sistema e opzioni- CombineLine: tecnologia integrata per contrastare oscillazioni del plasma e proteggere in caso di disadattamento, con impedenza di uscita reale di 50 ohm.
- SystemPort: misura del segnale RF su ingresso e uscita della rete di adattamento per miglior controllo dei parametri di processo e protezione della rete di adattamento.
- TruControl Power: software di comando user-friendly per messa in funzione e controllo sicuro del generatore o dell'intero sistema RF.
- Opzioni modulari: Arc Management (gestione degli archi), matchbox (reti di adattamento TruPlasma Match), oscillatori master per stabilizzazione, commutatori HF per l'utilizzo di un generatore su più stazioni, cavi coassiali specifici 50 ohm.
Affidabilità e installazioneStruttura particolarmente robusta per lunghi tempi di esercizio anche in processi critici; la protezione dal disadattamento e le opzioni di controllo assicurano funzionamento sicuro e produttivo in varie condizioni di carico.
Caratteristiche / specificazioni tecniche- Serie: TruPlasma RF Serie 3000
- Tecnologia: generatori ad alta frequenza (HF) per eccitazione plasma
- Applicazioni: RIE, ALD, PECVD, sputtering RF, incisione al plasma, rivestimento di schermi piatti, celle solari, processi per semiconduttori
- Efficienza: fino all'80% (diminuzione della potenza dissipata e dei consumi di raffreddamento)
- Protezione e stabilità: tecnologia CombineLine, impedenza di uscita reale 50 ohm
- Modalità di funzionamento: erogazione continua o pulsata di potenza
- Interfacce e integrazione: supporto per integrazione sistema RF (es. EtherCAT per connessioni di sistema)
- Software: TruControl Power per messa in funzione e gestione
- Opzioni disponibili: Arc Management, SystemPort, TruPlasma Match (matchbox), oscillatori master, commutatori HF, cavi coassiali per trasmissione potenza
- Installazioni: ampio impiego industriale (migliaia di installazioni in applicazioni diverse)