Generatore plasma alta frequenza TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2)

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Panoramica
Il TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) è un generatore HiPIMS progettato per sostituire le sorgenti di sputtering in CC sui sistemi magnetron esistenti senza modifiche hardware. Potenze di picco molto elevate generano densità di plasma estreme e flussi ionici elevati per ottenere rivestimenti PVD durevoli, resistenti alla corrosione e all'usura.

Caratteristiche principali

• Potenza di picco fino a 4 MW per elevata densità di plasma e ionizzazione.
• Adattamento diretto ai sistemi di catodo e alle condizioni di processo esistenti per integrazione agevole.
• Possibilità di funzionamento in modalità CC senza alimentazione CC esterna.
• Unità compatta mono‑blocco, completamente raffreddata ad acqua, adatta all'installazione in camera bianca.
• Gestione dell'arco completamente digitale (es. CompensateLine CLC) per bassa energia d'arco e minori difetti del film.

Applicazioni

• Rivestimenti per materiali duri per protezione da corrosione e usura di componenti altamente sollecitati.
• Semiconduttori e fotovoltaico: energia di processo su misura, alta produttività e parametri di rivestimento stabili.
• Rivestimenti di grandi superfici vetrate per architettura e uso industriale con processi PVD plasma.
• Incisione e riempimento di trench in combinazione con substrati polarizzati per migliorare le proprietà del film.

Vantaggi per il cliente e vantaggi di processo

• Stabilità del processo elevata: durata e frequenza degli impulsi regolabili e regolazione della potenza per mantenere parametri di deposizione costanti, anche in processi reattivi.
• Sputtering senza gocciolamenti e difetti minimi del film grazie al controllo digitale dell'arco con energia d'arco molto bassa.
• Parametri di impulso regolabili e controllo avanzato della potenza che aumentano le velocità di deposizione e contribuiscono a ridurre il costo totale di proprietà.
• Scalabilità dall'R&D alle grandi linee industriali grazie a elevata energia e tensione operative.

Opzioni

• CompensateLine (CLC): gestione digitale dell'arco per ottimizzare qualità del rivestimento e tassi di deposizione.
• Opzioni di adattamento del processo per adeguare il generatore ai diversi tipi di catodo e applicazioni.

Software

• PVD Power: software multilingue per operatore per configurazione, monitoraggio e diagnostica; include visualizzazione in tempo reale dei parametri, allarmi, setpoint operatore e registrazione ad alta risoluzione (funzione oscilloscopio) per ottimizzazione e analisi dei guasti.

Note
Progettazione compatta mono‑blocco completamente raffreddata ad acqua; configurabile per requisiti di processo specifici e adatta ad ambienti di camera bianca.

Caratteristiche / specifiche tecniche

• Potenza di picco: fino a 4 MW
• Tensione massima: fino a 2 kV
• Durata impulso: fino a 5 ms
• Frequenza impulso: fino a 10 kHz
• Modalità: HiPIMS e CC
• Raffreddamento: completamente ad acqua
• Tipo unità: unità compatta mono‑blocco (non richiede alimentazione CC esterna)
• Gestione dell'arco: completamente digitale (CompensateLine CLC disponibile)
• Software: PVD Power