Generatore plasma PECVD TruPlasma DC Series 4000 (G2)

PVD

Panoramica
Il TruPlasma DC Serie 4000 (G2) è un alimentatore DC pulsato progettato per lo sputtering reattivo di materiali difficili. Supporta sia la modalità pulsata sia la modalità Bias, garantendo un plasma stabile per processi PVD e PECVD critici e riducendo i tempi di fermo dovuti ad archi e i danni al substrato.

Tagline
Processi pulsati per superfici brillanti

Punti chiave

• Elaborazione digitale del segnale per controllo stabile del plasma e riduzione dei tempi persi per archi.
• Gestione rapida degli archi con bassa energia d'arco per minimizzare i danni al substrato e i difetti di superficie.
• Ampia gamma di frequenze di impulso e tensione inversa/bias regolabile per un adattamento flessibile del processo.
• Struttura compatta e robusta con chiller ad acqua integrato per risparmio di spazio e minore manutenzione.
• Funzionalità doppia: supporta modalità pulsata e Bias in un'unica unità.

Applicazioni

• Rivestimenti duri: plasma stabile per elevata durezza superficiale e migliore stabilità termica/chimica.
• Metalizzazione (PVD): deposizione di strati metallici ultrafini e omogenei per proprietà ottiche ed elettriche.
• Fotovoltaico: adatto per il deposito di TCO e strati conduttivi con bassa energia d'arco.
• Vetro architettonico: rivestimenti PVD su grandi superfici con elevati requisiti di alimentazione di processo.

Vantaggi per il cliente

• Migliore qualità del film e produttività grazie alla riduzione delle goccioline, meno difetti superficiali e velocità di deposizione più elevate.
• Flessibilità di processo tramite parametri di impulso regolabili e funzionamento in Bias per diverse applicazioni.
• Strumenti avanzati di monitoraggio e diagnostica per ottimizzare i processi e ridurre i tempi di fermo.

Opzioni

• Funzionamento parallelo e sincronizzazione di più generatori, inclusa la sincronizzazione del riconoscimento arco e della modalità di impulso per sistemi multi-target.

Software
PVD Power: software multilingue e intuitivo per operazione, configurazione e diagnostica. Visualizza i valori di processo reali, avvisi/allarmi, permette la definizione dei setpoint e registra/visualizza i parametri di funzionamento con alta risoluzione temporale (funzione oscilloscopio).

Specifiche tecniche

• Tecnologia: DC pulsato per sputtering reattivo; supporta modalità Bias.
• Modalità di funzionamento: pulsata e Bias (entrambe supportate dalla stessa unità).
• Gestione archi: digitale, risposta rapida con bassa energia d'arco.
• Controllo processo: elaborazione digitale dei segnali; ampio spettro di frequenze di impulso; tensione inversa regolabile.
• Raffreddamento: chiller ad acqua integrato per installazione compatta e manutenzione ridotta.
• Scalabilità: supporto per funzionamento parallelo e sincronizzazione di più unità.
• Software: PVD Power per operazione, configurazione, diagnostica e registrazione/visualizzazione dei dati (funzione oscilloscopio).
• Applicazioni tipiche: rivestimenti duri PVD/PECVD, metalizzazione (TCO), produzione di celle fotovoltaiche, rivestimenti di grandi superfici in vetro architettonico.