PanoramicaI TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) sono generatori di impulsi bipolari progettati per processi di deposizione assistita da plasma quali PVD, PECVD e sputtering reattivo. Offrono forme d'onda di uscita configurabili e gestione dell'arco completamente digitale per garantire condizioni di plasma stabili e risultati di deposizione riproducibili.
Caratteristiche principali- Gestione dell'arco completamente digitale con energia dell'arco molto bassa per migliorare la qualità dello strato.
- Forme d'onda regolabili per adattare il segnale a processi diversi.
- Supporto per modalità DC, DC pulsata e bipolare per coprire molte applicazioni.
- Raffreddamento ad acqua integrato nell'alloggiamento, senza necessità di raffreddatori esterni.
Applicazioni- Processi PVD, PECVD e sputtering reattivo.
- Produzione fotovoltaica e celle solari.
- Produzione di semiconduttori.
- Rivestimento di vetro architettonico.
- Rivestimenti decorativi e resistenti all'usura.
Vantaggi per il cliente- Qualità e produttività costanti grazie alla bassa energia dell'arco e all'alimentazione di processo stabile.
- Flessibilità di processo tramite forme d'onda regolabili per esigenze tecniche diverse.
- Riduzione dell'ingombro e integrazione semplificata grazie al raffreddamento ad acqua integrato.
SoftwareIl software PVD Power (multilingue) consente operazioni, configurazione e diagnostica: visualizzazione in tempo reale dei parametri di processo, avvisi e allarmi, inserimento di valori nominali dall'operatore e registrazione/visualizzazione ad alta risoluzione (funzione oscilloscopio) per l'analisi dei processi.
Componenti di sistema- Cavi di alimentazione, connettori e accessori disponibili per adeguarsi agli standard di connessione regionali.
- Opzioni per adattare il generatore all'ambiente di sistema e ottimizzare l'integrazione.
Caratteristiche / specificazioni tecniche- Famiglia prodotto: TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1).
- Modalità operative: DC, DC pulsata, bipolare.
- Gestione dell'arco: completamente digitale, energia d'arco molto bassa.
- Segnali di uscita: forme d'onda configurabili.
- Raffreddamento: acqua integrata (nessun raffreddatore esterno richiesto).
- Processi target: PVD, PECVD, sputtering reattivo.
- Applicazioni tipiche: fotovoltaico, semiconduttori, rivestimenti decorativi e resistenti all'usura, vetro architettonico.
- Software: PVD Power (visualizzazione in tempo reale, allarmi, registrazione, funzione oscilloscopio).