Generatore plasma a corrente a impulsi continua TruPlasma Highpulse 4000 (G2)

PVD

I generatori TruPlasma Highpulse Serie 4000 (G2) possono essere utilizzati in alternativa ai generatori per sputtering CC in sistemi Magnetron già esistenti, senza necessità di apportare modifiche. Permettono di ottenere rivestimenti di materiale duro particolarmente resistenti alla corrosione e all'usura, pertanto sono la prima scelta per le applicazioni HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Risultati di rivestimento perfetti Potenze di picco impeccabili fino a 4 megawatt generano densità di plasma estreme con elevati flussi di ioni. Impiego flessibile Il semplice adattamento a sistemi catodici e a condizioni di processo esistenti permette un'integrazione ottimale degli apparecchi. La prima scelta per applicazioni HiPIMS Come ultima evoluzione in processi di sputtering PVD pulsato, HiPIMS fornisce rivestimenti in materiale duro particolarmente resistenti alla corrosione e all'usura. Per svariate applicazioni Utilizzabile anche in modalità CC, non serve ulteriore generatore di corrente continua.