Sistema di misurazione di dimensione critica Spector

otticoper semiconduttoredi alta precisione

TZTEK fornisce sistemi di alta precisione e ripetibilità per la metrologia delle maschere, necessari durante la produzione delle stesse. Le maschere possono essere GOG e PSM o altre. Per i requisiti del CQI delle maschere in produzione, TZTEK fornisce obiettivi a lunga distanza di lavoro per la protezione della maschera con pellicole. Per la misurazione del CD sulla maschera, il sistema fornisce illuminazione visibile e UV in modalità riflessa e trasmessa. L'illuminazione UV può essere utilizzata per misurare la larghezza della struttura fino a 300 nm; la ripetibilità (3sigma) è per lo più nell'intervallo di alcuni nanometri. caratteristiche principali -Misura delle dimensioni critiche, ispezione dei difetti, revisione della maschera -Disponibile per maschere di dimensioni fino a 14 pollici e per maschere di forma personalizzata -Illuminazione visibile e UV disponibile in modalità trasmessa e riflessa -SECS/GEM -Basso costo di manutenzione, stabile e affidabile