Macchina per deposizione per MOCVD TurboDisc EPIK™ 700

Combina i rendimenti migliori della categoria e la massima produttività per ridurre i costi di produzione dei LED Il pluripremiato sistema MOCVD EPIK® 700 MOCVD di Veeco è il sistema MOCVD a più alta produttività dell'industria dei LED che riduce i costi per wafer fino al 20% rispetto alle generazioni precedenti. Disponibile nelle configurazioni a uno e due reattori, l'EPIK 700 è dotato di tecnologie innovative, tra cui il nuovo flusso di iniezione centrale IsoFlange™ e la bobina per wafer TruHeat™ che fornisce un flusso laminare omogeneo e un profilo di temperatura uniforme sull'intero porta wafer. Queste innovazioni tecnologiche producono uniformità di lunghezza d'onda per ottenere rendimenti più elevati in un contenitore più stretto. L'EPIK 700 offre un vantaggio di produttività di 2,5x rispetto ad altri sistemi grazie alle grandi dimensioni del suo reattore. Progettato per la produzione di massa, l'EPIK 700 può ospitare wafer di dimensioni 31x4", 12x6" e 6x8". I clienti possono trasferire facilmente i processi dai sistemi TurboDisc esistenti alla nuova piattaforma EPIK 700 MOCVD per la produzione rapida di LED di alta qualità. Grazie alla piattaforma flessibile EPIK 700 MOCVD, ulteriori aggiornamenti, vantaggi aggiuntivi e miglioramenti futuri continueranno a differenziare questo sistema di classe mondiale. Costo per wafer con un risparmio fino al 20% rispetto alle generazioni precedenti La migliore uniformità e ripetibilità di processo della categoria consente di ottenere un rendimento maggiore in un contenitore più stretto Il reattore a più alta produttività del settore genera un vantaggio di 2,5 volte superiore rispetto ai reattori precedenti Massima produzione con automazione collaudata, maggiore manutenibilità, lunghe campagne di manutenzione e miglioramento dell'efficienza dell'ingombro rispetto al sistema MaxBright™ MOCVD