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Macchina per deposizione per MOCVD TurboDisc EPIK 868
per polverizzazione catodicadi film sottilia catodi rotativi

Macchina per deposizione per MOCVD - TurboDisc EPIK 868 - VEECO - per polverizzazione catodica / di film sottili / a catodi rotativi
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Caratteristiche

Metodo
per MOCVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica
Tipo di deposito
di film sottili
Altre caratteristiche
a catodi rotativi

Descrizione

Prestazioni all'avanguardia con la massima efficienza di capitale e risparmio d'ingombro EPIK® 868 di Veeco è il sistema MOCVD a più alte prestazioni del settore dei LED che consente uniformità e ripetibilità superiori con una bassa difettosità. Disponibile in configurazioni a quattro reattori, EPIK 868 è dotato di tecnologie all'avanguardia, tra cui le tecnologie proprietarie IsoFlange™ e TruHeat™, che garantiscono un flusso laminare e un profilo di temperatura uniforme sull'intero supporto del wafer. Queste innovazioni tecnologiche consentono di ottenere i rendimenti più elevati richiesti per i mini e micro LED. La tecnologia TurboDisc® , integrata in EPIK 868, consente la massima disponibilità e operatività del sistema. Progettato per la produzione di massa, il carrier ad alta capacità EPIK 868 è in grado di ospitare wafer multipli di dimensioni pari a 4" o 6", per un costo di proprietà più basso. I clienti possono facilmente trasferire i processi dai sistemi TurboDisc esistenti alla nuova piattaforma MOCVD EPIK 868 per avviare rapidamente la produzione di mini e micro LED di alta qualità. Eccellente uniformità con bassa difettosità Architettura cluster compatta Architettura ad alta produttività per la massima produzione

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.