La piattaforma TubeStar è un forno tubolare compatto di tipo batch. Questa piattaforma è dedicata alle applicazioni di diffusione, ossidazione e deposizione ed è stata progettata per soddisfare le esigenze dell'ingegneria di processo. La gamma TubeStar è modulare e flessibile. Infatti, può essere composta da 1 a 4 tubi indipendenti, con una capacità di 50 wafer per tubo.
PLUS E VANTAGGI
La piattaforma di forni TubeStar eccelle nel trattamento di piccole quantità di wafer, ma si adatta bene anche al trattamento di grandi lotti grazie alla sua flessibilità. Questi forni hanno dimostrato la loro efficienza durante la qualificazione dei cambiamenti di processo, ad esempio nelle linee di produzione del fotovoltaico.
Una delle caratteristiche principali di questo forno tubolare è la precisione del trattamento termico unita a un'elevata flessibilità di regolazione. Ciò consente un ampio spettro di applicazioni.
APPLICAZIONI POSSIBILI
Diffusione
LPCVD
Ossidazione
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