Macchina di deposizione per polverizzazione catodica a magnetron OPT-S 1500

verticale in lineaper automobile

Panoramica
OPT-S 1500 è un sistema di deposizione ottica tramite sputtering magnetron con area di deposizione efficace Φ940 × H1000 mm e camera Φ1200 × H1650 mm. Integra incisione con sorgente ionica e 8 sorgenti di sputtering (opzioni planari o cilindriche) ed è progettato per rivestimenti ottici multistrato ad elevata uniformità per lenti, pannelli automobilistici, display, LiDAR e head-up display. I tipi di film supportati includono filtri cut-off, bande passanti, filtri RGB, AR, hard AR, IR-AR, HR, AS/AF e rivestimenti ITO.

Vantaggi principali

• 8 sorgenti di sputtering con configurazioni planari o cilindriche in base al processo
• Monitoraggio ottico online per tracciamento spettrale in tempo reale e controllo del punto finale di deposizione
• Moto planetario verticale del pezzo (rivoluzione e rotazione) per distribuzione uniforme dello spessore nei multilayer ottici
• Il processo di sputtering produce film densi e aderenti con basse perdite per assorbimento e dispersione
• Controllo tramite touch-screen e PLC per operazioni basate su ricette
• Gestione del vuoto tramite più pompe molecolari (5 pompe molecolari)

Applicazioni e tipi di film

• Applicazioni: lenti ottiche, pannelli automobilistici, schermi, moduli LiDAR, head-up display
• Tipi di film: filtri cut-off, filtri banda passante, filtri RGB, AR (antiriflesso), hard AR, IR-AR, HR (alta riflettanza), AS/AF (antimacchia/anti-impronta) e rivestimenti ITO

Progettazione e caratteristiche dell'apparecchiatura

• Sistema verticale integrato con porta laterale e due oblò per osservazione del processo
• Portapezzo cilindrico planetario verticale con movimento di rivoluzione e rotazione
• Specifiche del portapezzo: Φ170 × 12 assi (regolabile secondo requisiti)
• Dimensione della camera (Diametro × Altezza): Φ1200 × H1650 mm
• Area di deposizione efficace (Diametro × Altezza): Φ940 × H1000 mm
• Temperatura di lavoro: regolabile da temperatura ambiente fino a 300°C
• Vuoto finale: ~8 × 10⁻5 Pa (a vuoto, in condizioni di sala pulita)
• Ingombro (L × P × A): 4.0 × 2.1 × 2.8 m

Specifiche tecniche

• Modello: OPT-S 1500
• Tecnologia di deposizione: sputtering magnetron
• Tecnologia di incisione: incisione con sorgente ionica
• Materiali substrato: vetro, materiali cristallini, polimeri, ceramiche e metalli
• Struttura dell'apparecchiatura: sistema verticale integrato; porta laterale; 2 oblò
• Dimensione della camera (Diametro × Altezza): Φ1200 × H1650 mm
• Area di deposizione efficace (Diametro × Altezza): Φ940 × H1000 mm
• Specifiche del portapezzo: Φ170 × 12 assi; regolabile secondo requisiti
• Movimento del portapezzo: sistema portapezzo cilindrico planetario verticale (rivoluzione e rotazione)
• Sorgenti di sputtering: 8 (opzioni planari / cilindriche)
• Temperatura di lavoro: temperatura ambiente a 300°C
• Vuoto finale: ~8 × 10⁻5 Pa (a vuoto, in condizioni di sala pulita)
• Dimensioni dell'apparecchiatura (L × P × A): 4.0 × 2.1 × 2.8 m
• Controllo: touch-screen e controllo PLC
• Sistema di vuoto: più pompe molecolari (5 pompe molecolari)