Macchina di deposizione per polverizzazione catodica a magnetron OPT-S 800
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Macchina di deposizione per polverizzazione catodica a magnetron - OPT-S 800 - GUANGDONG HUASHENG - verticale in linea / per automobile
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Caratteristiche

Specificazioni
a magnetron, verticale in linea
Applicazioni
per automobile

Descrizione

Panoramica
OPT-S 800 è un sistema di deposizione per sputtering magnetron per rivestimenti ottici, con area di rivestimento effettiva Φ650 × H450 mm e camera Φ1150 × H980 mm. Il sistema integra incisione tramite sorgente ionica e quattro sorgenti di sputtering, disponibili in configurazione planare o cilindrica. La serie OPT-S è progettata per rivestimenti multicapa uniformi su lenti ottiche, pannelli automobilistici, display, moduli LiDAR e HUD.

Applicazioni
  • Lenti ottiche
  • Pannelli automobilistici (esterni/interni)
  • Display e pannelli touch
  • Ottiche per LiDAR e sensori
  • Head-up display (HUD)


Tipi di film
  • Filtri cut-off
  • Filtri passa-banda e filtri RGB
  • AR (antiriflesso)
  • Hard AR
  • IR-AR
  • HR (alta riflettività)
  • AS/AF (anti-macchia / anti-impronta)
  • Rivestimenti ITO (conduttivi e trasparenti)


Vantaggi principali
  • Quattro sorgenti di sputtering con opzioni planari o cilindriche per configurazioni di processo flessibili
  • Monitoraggio ottico online per feedback spettrale in tempo reale e controllo del punto finale di deposizione dei multilayer
  • Movimento planetario (rivoluzione e rotazione) del pezzo per garantire distribuzione uniforme dello spessore durante i depositi multicapa
  • Il processo di sputtering produce film ottici densi e ben aderenti con basse perdite per assorbimento e scattering


Caratteristiche
  • Area di rivestimento effettiva: Φ650 × H450 mm
  • Dimensione della camera: Φ1150 × H980 mm
  • Portapezzi: Φ135 × 10 assi (regolabile); portapezzi cilindrico planetario verticale
  • Interfaccia touch-screen e controllo PLC
  • Due pompe molecolari (componenti del sistema di vuoto)


Parametri del prodotto (tabella)
Modello: OPT-S 800
Tecnologia di rivestimento: Sputtering magnetron
Tecnologia di incisione: Incisione a sorgente ionica
Materiali dei substrati: Vetro, materiali cristallini, polimeri, ceramiche, metalli
Struttura dell'apparecchiatura: Sistema verticale integrato; porta laterale; 2 finestre di ispezione
Dimensione camera (Diametro × Altezza): Φ1150 × H980 mm
Area di rivestimento effettiva (Diametro × Altezza): Φ650 × H450 mm
Specifiche portapezzi: Φ135 × 10 assi; regolabile
Sorgenti di sputtering: 4; opzioni planari / cilindriche
Temperatura di lavoro: Ambiente fino a 300°C (regolabile)
Vuoto ultimo: 8 × 10⁻⁵ Pa (a vuoto, condizioni sala bianca)
Gas di processo: Argon, azoto, ossigeno, acetilene
Dimensioni apparecchiatura (L × W × H): L3.8 × W1.8 × H2.3 m

Specifiche tecniche
  • Modello: OPT-S 800
  • Metodo di rivestimento: Sputtering magnetron
  • Metodo di incisione: Incisione a sorgente ionica
  • Camera: Φ1150 × H980 mm
  • Area di rivestimento effettiva: Φ650 × H450 mm
  • Portapezzi: Φ135 × 10 assi, planetario verticale
  • Sorgenti di sputtering: 4 (opzioni planari o cilindriche)
  • Intervallo di temperatura: RT a 300°C
  • Vuoto ultimo: 8 × 10⁻⁵ Pa (a vuoto, condizioni sala bianca)
  • Gas di processo: Ar, N2, O2, C2H2
  • Dimensioni: L3.8 × W1.8 × H2.3 m

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