Macchina per deposizione PVD OPT-E

di film sottilisottovuotoottica

Panoramica
OPT-E è un sistema di deposizione ottica a fascio di elettroni per il deposito di film sottili ottici e funzionali su vetro, quarzo, wafer di silicio e ceramiche. Applicazioni tipiche includono vetro 3D per dispositivi mobili, lenti ottiche di precisione e wafer per semiconduttori. Il sistema integra un cannone elettronico a deflessione con crogiolo in rame raffreddato ad acqua e supporta il monitoraggio cristallo e ottico per un controllo accurato delle multicouche. Sono disponibili opzioni configurabili di sorgente ionica per migliorare densità e adesione del film.

Vantaggi principali

• Cannone elettronico a deflessione con crogiolo in rame raffreddato per l'evaporazione di metalli ad alto punto di fusione e ceramiche ossidiche
• Monitoraggio cristallo e ottico per controllo preciso di spessore e spettro
• Opzioni di deposizione assistita da ioni (RF, catodo cavo, filamento Hall) per aumentare densità e adesione
• Supporti a cupola o planetari che consentono processi multicouche continui (rivestimenti AR, HR, filtri)

Caratteristiche

• Sorgente di evaporazione a fascio di elettroni
• Sistemi di monitoraggio cristallo e ottico per il controllo delle multicouche
• Tipologie di sorgente ionica configurabili: RF, catodo cavo, filamento Hall
• Portapezzi: cupola integrata o disco planetario a 4 assi; rivoluzione o rotazione planetaria con regolazione della velocità continua a frequenza variabile
• Interfaccia touch‑screen e automazione PLC

Parametri di prodotto
Modello: OPT-E
Tecnologia di rivestimento: Evaporazione a fascio di elettroni
Principio di funzionamento: Deposizione fisica in fase vapore mediante evaporazione con fascio elettronico ad alta energia
Materiali substrato: Vetro, quarzo, wafer di silicio, ceramiche
Applicazioni tipiche: Vetro 3D per dispositivi mobili, lenti ottiche di precisione, wafer per semiconduttori
Tipi di rivestimento: AR, HR, film per filtri ottici, strati elettrodo/contatto per semiconduttori, film AF
Materiali comuni: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
Sorgente di evaporazione: Cannone elettronico a deflessione con crogiolo in rame raffreddato ad acqua
Vuoto finale: 6 × 10⁻⁴ Pa (a vuoto, condizioni sala bianca)
Opzioni diametro camera: Ø900 / Ø1100 / Ø1350 / Ø1550 / Ø1800 / Ø2050 / Ø2350 / Ø2700 mm
Altezza camera: 1500 mm
Portapezzi: Portapezzi a cupola / disco planetario piatto
Specifiche portapezzi: Cupola integrata / disco planetario 4 assi

Specifiche tecniche

• Modello: OPT-E
• Metodo di rivestimento: Evaporazione a fascio di elettroni (cannone a deflessione + crogiolo in rame raffreddato)
• Monitoraggio: Monitoraggio cristallo e ottico per controllo di spessore e lunghezza d'onda
• Assistenza ionica: Opzioni configurabili RF, catodo cavo o filamento Hall
• Substrati supportati: Vetro, quarzo, wafer di silicio, ceramiche
• Rivestimenti supportati: AR, HR, filtri ottici, strati elettrodo/contatto per semiconduttori, AF
• Materiali comuni: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
• Prestazioni di vuoto: fino a 6 × 10⁻⁴ Pa (a vuoto, condizioni sala bianca)
• Dimensioni camera: diametri Ø900–Ø2700 mm; altezza 1500 mm
• Portapezzi: cupola o planetario (cupola integrata o disco planetario 4 assi), controllo velocità a frequenza variabile
• Controllo: Touch‑screen e automazione PLC