Soddisfa le richieste del cliente per misurare la bassissima densità di silice con una sensibilità massima di 0,01 µg/L (0,01 ppb)
L'acqua ultrapura utilizzata nei processi di produzione dei semiconduttori può essere ulteriormente purificata utilizzando una resina a scambio ionico. Catturare il più rapidamente possibile la silice disciolta da questa resina a scambio ionico può controllare la qualità dell'acqua ultrapura, che è importante durante i processi di produzione.
HORIBA Advanced Techno ha sviluppato e impiegato una nuova "cella di misura della lunghezza del percorso di luce lunga" per consentire la misurazione altamente sensibile della silice a bassissima densità e ha anche realizzato un modello desktop compatto per migliorare l'usabilità.
Con un'ampia gamma di funzioni standard come l'autodiagnosi e nuovi miglioramenti delle prestazioni come la risposta ad alta velocità e l'elevata sensibilità, questo prodotto fornisce un supporto avanzato per i processi ad acqua pura nella produzione di semiconduttori.
Alta sensibilità ed elevata riproducibilità
Un lungo percorso di luce di circa 1 m è assicurato dall'applicazione di tecnologie a fibre ottiche. In questo modo si realizza una sensibilità elevata che risponde ad una densità ultrabassa. Questo prodotto garantisce la precisione riproducibile del fondo scala ±2% all'interno del range da 0 a 2 µg/L durante la misura ad alta velocità di 5 minuti.
Modello da tavolo Design compatto
La struttura flessibile della "cella di misura della lunghezza del percorso luminoso lungo" realizza anche un rivoluzionario design compatto. Questo modello da tavolo è disponibile per varie condizioni di installazione, come ad esempio spazi ridotti.
Riduzione del consumo di reagente a 1/5
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