Sistema di litografia e-beam JBX-8100FS

laser

Il sistema di litografia a fascio di elettroni JBX-8100FS ha raggiunto un'elevata produttività, un ingombro ridotto e un risparmio di energia elettrica. Caratteristiche Ingombro ridotto L'area richiesta per il sistema standard è di 4,9 m (L) x 3,7 m (P) x 2,6 m (H), molto più piccola rispetto ai sistemi convenzionali. Basso consumo energetico La potenza necessaria per il normale funzionamento è di circa 3 kVA, ridotta a 1/3 rispetto ai sistemi convenzionali. Elevata produttività Il sistema dispone di due modalità di esposizione, ad alta risoluzione e ad alta produttività, che supportano diversi tipi di modellazione, dalla lavorazione ultra fine alla produzione di piccole e medie dimensioni. Ha ridotto al minimo il tempo di inattività durante l'esposizione, aumentando al contempo la velocità massima di scansione di 1,25-2,5 volte fino a 125 MHz (il livello più alto al mondo) per una scrittura ad alta velocità. Versione Il JBX-8100FS è disponibile in 2 versioni: G1 (modello base) e G2 (modello full option). Al modello G1 possono essere aggiunti accessori opzionali a seconda delle necessità. Nuove funzioni È disponibile un microscopio ottico opzionale che consente di esaminare i modelli sul campione senza esporre la resistenza alla luce. Una torretta di segnalazione è fornita di serie per il monitoraggio visivo del funzionamento del sistema. Risoluzione del posizionamento laser Le posizioni del palcoscenico sono misurate e controllate con incrementi di 0,6 nm come standard, e con incrementi di 0,15 nm con un aggiornamento opzionale. Controllo del sistema Il versatile sistema operativo Linux® , abbinato a una nuova interfaccia grafica, facilita il funzionamento. Il programma di preparazione dei dati supporta sia Linux® che Windows®.