Sistema di litografia con fascio elettronico JBX-3200MV

JBX-3200MV è un sistema di litografia a fascio elettronico di forma variabile per la realizzazione di maschere per nodi da 28 nm a 22/20 nm. La sua tecnologia all'avanguardia consente di ottenere alta velocità, alta precisione e alta affidabilità. Questo sistema EB utilizza un fascio di elettroni a forma variabile da 50 kV e uno stadio per campioni a passo e ripetizione. Caratteristiche Sfruttando i vantaggi del metodo di scrittura step-and-repeat, questo sistema EB combina varie funzioni come la funzione di modulazione della dose di scrittura e la funzione di scrittura overlay, consentendo così di supportare le correzioni versatili richieste per la modellazione di maschere e reticoli di nuova generazione. Negozi di maschere e negozi di maschere commerciali in Giappone e all'estero (I nomi dei clienti non vengono divulgati)