Sistema di litografia con fascio elettronico JBX-3050MV

JBX-3050MV è un sistema di litografia a fascio elettronico di forma variabile per la realizzazione di maschere di nodi da 45 nm a 32 nm. La sua tecnologia all'avanguardia consente di ottenere alta velocità, alta precisione e alta affidabilità. Questo sistema EB utilizza un fascio di elettroni a forma variabile da 50 kV e uno stadio step-and-repeat. Caratteristiche Il JBX-3050MV è un sistema di litografia a fascio elettronico per la fabbricazione di maschere e reticoli che soddisfa la regola di progettazione di 45-32 nm. Questo sistema è caratterizzato da una scrittura di modelli ad alta velocità, alta precisione e alta affidabilità, ottenuta grazie a una tecnologia di alto livello.