Macchina di deposizione per polverizzazione catodica a magnetron VTC-600-2HD DC/RF

per metallizzazione

Il VTC-600-2HD è un sistema di sputtering a magnetrone con due sorgenti di target: 1) sorgente DC per il rivestimento di materiale metallico su una testa e 2) sorgente RF per il rivestimento di materiale non metallico sull'altra testa. È dotato di un rilevatore di spessore del film che consente all'utente di monitorare facilmente l'avanzamento del rivestimento e di registrare i dati. Questo modello è stato progettato in modo sofisticato per rivestire strati di film singoli o multipli di un'ampia gamma di materiali di substrato (ferroelettrici, condutivi, leghe, semiconduttori, ceramici, dielettrici, ottici, ossidi, duri, PTFE e così via). La sua compattezza e facilità d'uso lo rendono un sistema di rivestimento ideale per l'utilizzo nei laboratori di ricerca e sviluppo. Potenza in ingresso - 220VAC 50/60Hz, monofase - 2000W (pompa inclusa) Alimentazione della sorgente - Due sorgenti di potenza per lo sputtering sono integrate in un'unica scatola di controllo - Sorgente DC: 500W per il rivestimento di materiali metallici - Sorgente RF: 600 W con regolazione automatica per il rivestimento di materiali non metallici - La sorgente compatta 300 RF è disponibile a un costo aggiuntivo Testa di sputtering a magnetrone - Sono incluse due teste di sputtering a magnetrone da 2" con camicie di raffreddamento ad acqua (fare clic sull'immagine a sinistra per vedere le specifiche dettagliate) - Una è collegata all'alimentazione RF per i materiali non conduttivi - Un'altra è collegata alla fonte di alimentazione sputtering DC per il rivestimento di materiali metallici - Dimensioni del bersaglio richieste: 2" di diametro - Spessore massimo di 1/16" per i target metallici - Spessore massimo di 1/4" per i target non conduttivi - Per i test dimostrativi sono inclusi un bersaglio in acciaio inox e uno in ceramica Al2O3