Spin coater su wafer VTC-200P

La macchina di rivestimento rotante sottovuoto Vtc-200p è adatta al processo di rivestimento superficiale di semiconduttori, cristalli, dischi ottici, produzione di lastre, ecc. Questa macchina può essere utilizzata per la preparazione del rivestimento di soluzioni di rivestimento fortemente acide e fortemente alcaline. La cavità della macchina di rivestimento rotante sottovuoto vtc-200p non può essere aspirata. Quando funziona, il campione viene fissato sul vassoio portacampioni tramite l'adsorbimento del vassoio sottovuoto. L'apparecchiatura può memorizzare 12 gruppi di programmi, ogni gruppo di programmi comprende 6 fasi operative. Nelle diverse fasi operative, il numero di giri dell'apparecchiatura è diverso, in modo che la velocità dell'apparecchiatura venga aumentata lentamente fino alla velocità limite, il che favorisce la formazione uniforme del film di materiale sulla superficie del campione, senza eccessivi sprechi e risparmiando materiale. Il coperchio superiore della camera può riscaldare il campione (funzione opzionale), favorendo il processo di rivestimento del materiale filmico ad alta viscosità. La macchina di rivestimento rotante sottovuoto Vtc-200p presenta i vantaggi di un funzionamento semplice, di una pulizia conveniente, di una dimensione compatta, ecc. Caratteristiche principali: 1. Ci sono 12 gruppi di programmi, ogni gruppo comprende 6 fasi di funzionamento, l'intervallo di impostazione della velocità di aumento e diminuzione di ogni sezione è 100-2000rpm / s, e l'intervallo di tempo di ogni sezione è 0-60s. 2. Il campione è fissato tramite adsorbimento sotto vuoto, facile da usare. 3. Il grado di vuoto della ventosa può raggiungere -0,08mpa. 4. Utilizzando lo strumento di posizionamento, il campione può essere facilmente collocato in posizione centrale per ridurre le vibrazioni o i volantini causati dall'eccentricità.