Microscopio AFM NX20

da ricercaper misurazione della rugosità di superficiemodulare

Park NX20 è una piattaforma AFM per tutti i laboratori di ricerca che si occupano di campioni fino a 200 mm. Dalle applicazioni accademiche fino ai semiconduttori e all'analisi dei guasti, NX20 offre caratteristiche uniche come misure accurate e riproducibili con sistema di scansione XY disaccoppiato, misure di rugosità superficiale con rilevatore Z a basso rumore, modalità True Non-Contact™ che garantisce la nitidezza della punta per l'accuratezza della rugosità superficiale, un'ampia gamma di modalità di scansione ad alta risoluzione e un design modulare. L'NX20 è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori e degli hard disk per l'accuratezza dei dati e la riproducibilità delle misure, che migliorano l'efficienza analitica degli standard di produttività. La versione da 300 mm - Park NX20 300 mm - supporta un campo di spostamento motorizzato di 300 mm x 300 mm ed è in grado di ispezionare in modo efficiente un intero wafer da 300 mm, senza la necessità di un ingombrante spostamento del campione. Caratteristiche tecniche principali: scanner 2D a guida flessionale con intervallo di scansione di 100 µm x 100 µm * Scanner Z ad alta velocità con intervallo di scansione di 15 µm * Sensore di posizione XYZ a basso rumore * Stadio di campionamento XY motorizzato con encoder opzionali * Automazione step-and-scan * Portacampioni accessibile * Slot di espansione per modalità e opzioni SPM avanzate * Ottica ad alta potenza diretta sull'asse con illuminazione a LED integrata * Innesto automatico tramite testa SLD a collegamento scorrevole * Stadio Z motorizzato allineato verticalmente e stadio di messa a fuoco * Elettronica digitale a 24 bit ad alta velocità