Linea di trattamento per celle solari InOxSide®

chimicaumida

L'apparecchiatura di lavorazione automatizzata RENA InOxSide® 3 è stata progettata come soluzione integrata per l'isolamento dei bordi, la lucidatura del lato posteriore e la rimozione del vetro drogato delle celle solari al silicio. Utilizzando il processo che garantisce il minor costo di gestione e le migliori prestazioni, la tecnologia InOxSide® è la scelta migliore per la produzione di celle solari in silicio Al-BSF, PERC e PERT. Si basa sulla piattaforma in linea RENA NIAK. Caratteristiche e vantaggi Incisione chimica a umido su un solo lato, completamente automatizzata, in un processo di tipo inline su 5/6 corsie Incisione di emettitori su un solo lato, lucidatura del lato posteriore e rimozione di vetri drogati (PSG/BSG) Utilizza HF/HNO3/H2SO4 per l'incisione su un solo lato, ottenendo il miglior costo di proprietà (CoO) della categoria Tecnologia brevettata RENA Incisione posteriore regolabile: da 1 a 5 µm, fino a 6 µm con l'opzione RENA PreCon) Risciacquo e asciugatura del wafer integrati Produzione fino a 6000 wafer/ora Compatibile con wafer di dimensioni M0, M1, M2, M4, M6 e M12 Lunga durata del bagno grazie alla funzione "feed-and-bleed" Sistema di dosaggio accurato per una composizione costante del bagno Utilizza un design dei rulli privo di O-ring Il tasso di rottura più basso del settore Basato sulla piattaforma di lavorazione in linea RENA NIAK Elevato tempo di attività Facile manutenzione Opzioni Interfaccia MES (SECS/GEM) Armadio per l'alimentazione chimica Stazione di pompaggio per lo scarico dei prodotti chimici e delle acque reflue Sensori per il controllo del processo (es. pH, conducibilità) RENA RaPID (soluzione anti-PID RENA)