RENA offre le migliori soluzioni di lavorazione nei processi di tipo batch per applicazioni di testurizzazione, incisione e pulizia. La tecnologia RENA Batch N è un fattore abilitante per la tecnologia delle celle solari ad alta efficienza.
L'apparecchiatura di produzione RENA BatchTex® N è la soluzione numero uno per i processi di testurizzazione alcalina ad alta produttività e migliore qualità per il silicio monocristallino (mono-Si). La tecnologia di processo RENA monoTEX® garantisce un risultato di testurizzazione di altissimo livello ed è la soluzione RENA BatchTex® più utilizzata nel settore. L'apparecchiatura si basa sulla piattaforma RENA Batch N.
L'apparecchiatura di lavorazione automatizzata RENA BatchEtch N è un processo di incisione di tipo batch per celle solari in silicio. A seconda delle esigenze del cliente, sono disponibili processi alcalini e acidi. Nello strumento possono essere integrate anche fasi di pulizia. L'apparecchiatura si basa sulla piattaforma RENA Batch N.
Incisione e pulizia del poli-Si ottimizzate da RENA. Il BatchPolyClean offre un sostanziale miglioramento dell'efficienza e delle prestazioni ottimali del processo. Questo sistema è compatibile con wafer di varie dimensioni, da M0 a G13, e con cassette ad alta capacità. Il risultato è un notevole aumento della produttività, che può raggiungere i 15.000 wafer all'ora, con una significativa riduzione dei costi complessivi di gestione.
RENA BatchPolyClean stabilisce un nuovo standard per la rimozione del poli-Si, lo shunt etch e la successiva pulizia ad alte prestazioni delle celle TOPCon nell'industria solare.
L'apparecchiatura di lavorazione automatizzata RENA BatchClean N è destinata a processi di pulizia di tipo batch per celle solari in silicio. A seconda delle esigenze del cliente, è disponibile un'ampia gamma di processi alcalini e acidi.
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