Macchina di verniciatura a polvere manuale B2250

automatica

Rivestimento di polveri Applicazione Il B2250 batch coater è un impianto unico nel suo genere per la deposizione di metalli, leghe e ossidi su materiali dispersi con diametro da 50 a 400 µm. Ingegneria e tecnologia La verniciatrice a polvere B2250 è un impianto a lotti per l'impiego nella produzione e nella ricerca e sviluppo. Il rivestimento viene eseguito utilizzando imbarcazioni ad alta velocità di evaporazione SIDRABE o magnetroni sputter DC sputter A seconda del rivestimento richiesto, la polvere viene esposta come una cortina di polvere che cade o uno strato di polvere sul trasportatore vibrante. Circolazioni multiple della polvere in un cerchio chiuso assicurano un graduale aumento dello spessore del rivestimento durante il ciclo di deposizione. Il sistema di raffreddamento/riscaldamento stabilizza la temperatura delle superfici di contatto nell'intervallo da - 20 a +110 oC durante la circolazione della polvere. L'essiccazione della polvere può essere avviata prima della deposizione del rivestimento. Il raffreddamento della polvere può essere avviato dopo aver raggiunto la temperatura limite di 50 °C per evitare l'agglomerazione della polvere. Tutte le parti interne della camera a vuoto sono chiuse al massimo per prevenire la perdita di polvere e proteggere i meccanismi all'interno della camera È prevista la possibilità di monitorare la composizione e lo spessore del rivestimento mentre il processo è in corso. La temperatura della polvere e delle superfici di contatto è continuamente monitorata Il sistema di ingresso del gas di processo comprende i regolatori di flusso di massa Il sistema di pompaggio comprende pompe a diffusione di olio con trappole raffreddate ad acqua. Il controllo del rivestimento viene effettuato tramite PLC in modalità automatica o manuale. Scheda tecnica Substrato: materiali dispersi, diametro delle particelle 50 ... 400 µm Produttività: 1...10 tonnellate/anno Rivestimento: metalli, leghe, ossidi Spessore del rivestimento: fino a 1 µm Fonti di deposizione: Magneti planari a corrente continua o imbarcazioni ad evaporazione brevettate SIDRABE