Microscopio elettronico a scansione con sonda ionica focalizzata Helios 5 PFIB DualBeam

per ricerca sui materialiper semiconduttore3D

Microscopio elettronico a scansione a fascio di ioni focalizzato al plasma per la preparazione di campioni TEM, compresa la caratterizzazione 3D, il cross-sectioning e la microlavorazione. Il Thermo Scientific Helios 5 Plasma FIB (PFIB) DualBeam (microscopio elettronico a scansione a fascio di ioni focalizzato, o FIB-SEM) offre capacità ineguagliabili per la scienza dei materiali e le applicazioni dei semiconduttori. Per i ricercatori nel campo della scienza dei materiali, Helios 5 PFIB DualBeam fornisce una caratterizzazione 3D di grandi volumi, una preparazione del campione senza gallio e una microlavorazione precisa. Per i produttori di dispositivi a semiconduttore, tecnologia di imballaggio avanzata e dispositivi di visualizzazione, Helios 5 PFIB DualBeam offre una de-elaborazione senza danni e su vasta area, una preparazione del campione veloce e un'analisi dei guasti ad alta fedeltà. Preparazione di campioni STEM e TEM senza gallio Preparazione di campioni TEM e APT di alta qualità, senza gallio, grazie alla nuova colonna PFIB che consente la lucidatura finale a 500 V Xe+ e offre prestazioni superiori in tutte le condizioni operative. Automazione avanzata Preparazione di campioni TEM in situ ed ex situ e cross-sectioning più semplice e veloce, automatizzata e multisito grazie al software AutoTEM 5 opzionale. Colonna FIB al plasma xenon di nuova generazione da 2,5 μA Alta produttività e qualità statisticamente rilevante per la caratterizzazione 3D, il cross-sectioning e la microlavorazione utilizzando la colonna FIB al plasma Xenon (PFIB) di nuova generazione da 2,5 μA. Informazioni multimodali del sottosuolo e 3D Accesso a informazioni multimodali di alta qualità sulla sottosuperficie e in 3D con un preciso puntamento della regione di interesse utilizzando il software opzionale Auto Slice & View 4 (AS&V4).