Macchina per deposizione per polverizzazione catodica

di film sottilisolare

Il sistema Infinity IBD produce film densi e con difetti ridotti, con una precisione e un'uniformità estremamente elevate. Offre un controllo indipendente sulle energie degli ioni, in modo da poter ottenere specifiche di film sottile precise con una contaminazione molto bassa da sfaldamento. Il modulo Bias Target Sputter offre un eccellente controllo delle interfacce del film sottile, fornisce un controllo indipendente sulle correnti ed energie degli ioni e opera a bassa pressione. Questo elimina la contaminazione e la dispersione da overspill del fascio, previene i danni alla superficie, consente un controllo stretto delle sollecitazioni e crea film densi e privi di difetti. Il modulo BTS migliora i costi di gestione grazie a un maggiore utilizzo del target che consente di ridurre le dimensioni complessive del target. Il design del sistema consente di ottenere un'eccellente uniformità su substrati di grandi dimensioni senza rotazione. Il modulo offre uno sputtering pulsato e un tasso di deposizione più elevato rispetto ad altre piattaforme IBD. Tutte queste caratteristiche e vantaggi unici sono supportati dall'impegno di Denton per una partnership e un'assistenza a lungo termine. Grazie ai nostri esperti, riceverete una configurazione altamente affidabile per soddisfare le vostre esigenze e le vostre specifiche, in grado di garantire un'elevata operatività del sistema e una facile manutenzione. Microbolometri all'ossido di vanadio Ottica di precisione (laser, rivelatori IR) Rivestimenti antiriflesso VCSEL Celle solari ad alta efficienza Valvole di spin per la registrazione magnetica Array sul piano focale Imaging termico Sfaccettature di barre laser