Macchina per deposizione per polverizzazione catodica Discovery V

per polverizzazione catodica a magnetronper l'industria microelettronica

Il Discovery V è ottimale per l'uso sulla piattaforma Versa Cluster. Offre una stretta uniformità, un'elevata velocità di profondità, un ingombro ridotto e un elevato tempo di attività, offrendo versatilità e affidabilità e soddisfacendo le esigenze di produzione di grandi volumi. Resistori e sensori a film sottile Film metallici e dielettrici per wafer Contatti metallici di semiconduttori composti Ricerca e sviluppo Il Discovery V è un modulo di deposizione rapida e uniforme, completamente integrato nella piattaforma Versa, che utilizza un catodo planare per lo sputtering magnetronico. Utilizza un catodo da 300 mm e può essere utilizzato per applicazioni standard fino a wafer da 200 mm. Impiega un pacchetto di magneti rotanti regolabili per ottimizzare l'uniformità e fornisce tassi elevati per la produzione di grandi volumi. In una configurazione a catodo planare, il catodo è montato direttamente sopra il substrato. Con questa configurazione, è possibile ottenere una stretta uniformità su un lato del substrato durante lo sputtering per proprietà quali lo spessore del film, la resistenza del foglio e l'indice di rifrazione. È la configurazione ideale per le applicazioni che non richiedono il co-sputtering. Questa configurazione del catodo offre anche una migliore resa, una buona capacità di sollevamento e un'elevata velocità di deposizione.