Macchina per deposizione CVD Voyager PIB-CVD

per polverizzazione catodicadi film sottiliottica

Il Voyager PIB-CVD è un sistema di deposizione chimica da vapore assistita da fascio di ioni al plasma (PIB-CVD) costruito attorno alla sorgente ionica Endeavor RF senza filamenti. Questa sorgente ionica brevettata, per sua stessa concezione, ha un controllo indipendente sia della densità di corrente che dell'energia degli ioni in un ampio intervallo, in grado di produrre rivestimenti multistrato ad alto tasso di deposizione. È in grado di depositare rivestimenti ad alta velocità e di alta qualità a bassa temperatura (inferiore a 100°C), rendendola compatibile con i tipici substrati plastici come il policarbonato (PC) e il polimetilmetacrilato (PMMA). Il sistema Voyager PIB-CVD è stato progettato con un'attenzione particolare al nanocomposito simile al diamante (DLN) per fornire la migliore flessibilità della categoria per rivestire parti planari (es. wafer di silicio) e tridimensionali (es. lenti ottiche). Il sistema è configurato con il sistema di controllo Process Pro di Denton, che consente il controllo automatico e manuale del processo. Inoltre, è disponibile una configurazione opzionale proprietaria della camera per consentire il co-sputtering durante la deposizione DLN per film DLN (Me-DLN). Questa configurazione è unica nel settore e offre la possibilità di sviluppare nuovi film DLN con proprietà meccaniche, elettriche e tribologiche personalizzabili. La piattaforma Voyager PIB-CVD fornisce film di nanocompositi diamantati (DLN) per: Display flessibili e resistenti ai graffi Rivestimenti antiusura per prodotti medici e commerciali Film protettivi trasparenti agli infrarossi Rivestimenti idrofobici