Forno a diffusione

a cameradi ricotturadi ossidazione

La diffusione a bassa pressione è attualmente considerata un modo efficace per migliorare l'efficienza di conversione delle celle solari. La diffusione a bassa pressione è attualmente considerata un modo efficace per migliorare l'efficienza di conversione delle celle solari. La diffusione a bassa pressione/ricottura per ossidazione diffusa migliora il percorso libero molecolare della sorgente di diffusione e risolve i problemi di profondità e uniformità della diffusione; rispetto alla diffusione a pressione atmosferica, presenta alcuni vantaggi significativi, come l'elevata produttività, l'alta resistenza al quadrato, la ripetibilità del processo, il basso consumo della sorgente, la pulizia e il rispetto dell'ambiente, ecc. Questa apparecchiatura viene utilizzata principalmente per il processo di drogaggio per diffusione e ricottura per ossidazione dei wafer di silicio nella produzione di celle solari in silicio cristallino. Caratteristiche principali Processo maturo ad alta capacità, sistema di carico e scarico: design bilanciato e simmetrico per migliorare la stabilità; Corpo del forno a raffreddamento rapido: La più recente tecnologia brevettata fa sì che la temperatura del corpo del forno scenda rapidamente alla temperatura richiesta, la velocità di raffreddamento è aumentata di oltre il 25%, migliorando ovviamente l'uniformità della temperatura nel tubo del forno; Il gas di scarico viene raccolto da un condensatore raffreddato ad acqua ad alta efficienza per garantire un funzionamento stabile e affidabile di tubi, valvole, filtri e pompe a membrana e lunghi periodi di manutenzione; Design stabile della conduttura della sorgente anti-interferenza per ridurre la fluttuazione della resistenza quadrata causata dal disturbo dei fattori ambientali; Sistema MES/CCRM con architettura completa e prestazioni eccezionali.