Valvola a manicotto LD

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Valvola a diaframma manuale a bassa pressione LD SERIES — UHP alta temperatura, volume morto zero

Applicazione e scopo
La valvola a diaframma manuale LD SERIES è progettata per linee di vapore a bassa pressione e linee in vuoto ultra alta purezza (UHP) nella produzione di semiconduttori, in particolare per linee riscaldate impiegate in processi come CVD e ALD. Fornisce isolamento manuale positivo prevenendo le fughe virtuali che possono compromettere processi su scala sub-nanometrica.

Eliminazione delle fughe virtuali tramite progettazione

• Architettura a volume morto zero: Camera interna bagnata ottimizzata senza cavità nascoste per evitare intrappolamento molecolare.
• Scelta materiali per alte temperature: Parti bagnate in acciaio inossidabile 316L VIM‑VAR e diaframmi in Hastelloy C‑22 o superleghe a base di cobalto (UNS R30003) per mantenere integrità sotto riscaldamento continuativo.
• Finitura elettrolucidata: Superfici interne elettrolucide a < 5 micro‑inch Ra per ridurre l’adsorbimento e accelerare la desorbimento in fase di spurgo.

Installazione e manutenzione
Disimballare i componenti doppio sigillati esclusivamente in sala bianca certificata Classe 100. Installare la valvola con saldatura orbitale butt‑weld o connessioni VCR face‑seal raccomandate. Se si utilizzano giacchette riscaldanti, verificare la copertura uniforme e non superare la temperatura massima nominale. Eseguire prove di decadimento del vuoto e controlli con spettrometro di massa all’elio per confermare l’integrità prima dell’avvio del processo.

LD SERIES
VALVOLA A DIAFRAMMA MANUALE A BASSA PRESSIONE

Caratteristiche
Corpo

• Corpo in acciaio inossidabile 316L VIM‑VAR per applicazioni ultrahigh‑purity.
• Rugosità interna raggiungibile < 5 μin Ra e canale di flusso completamente pulibile.
• Minimizza le aree di intrappolamento per facilitare lo spurgo e massimizzare la capacità di flusso.

Diaframma

• Hastelloy C‑22 o superleghe a base di cobalto (UNS R30003) per resistenza a temperatura e corrosione.
• Progettazione ottimizzata per lunga durata ciclica.

Sede

• Sede PCTFE completamente contenuta resistente al rigonfiamento e alla contaminazione.
• Prestazioni migliorate nei test di tenuta all’elio e generazione minima di particelle.
• Assemblaggio e imballaggio in condizioni di elevata pulizia; test all’elio prima della spedizione.

Dati tecnici
Sono disponibili illustrazioni tecniche e disegni dimensionali di riferimento (dimensioni in millimetri; soggette a modifica).

Dimensioni prodotto
Le dimensioni sono fornite a titolo indicativo e possono essere aggiornate.

Forma del canale di flusso
Canale di flusso ottimizzato per minimizzare l’intrappolamento e massimizzare l’efficienza di spurgo.

Informazioni per l’ordine
Sono disponibili più configurazioni e specifiche standard d’ordine per la famiglia LD SERIES.

Specifiche

• Modello / Serie: LD SERIES
• Applicazione: Linee UHP in vuoto e linee vapore a bassa pressione per processi semiconduttori (CVD, ALD)
• Materiale del corpo: Acciaio inossidabile 316L VIM‑VAR
• Finitura interna: Elettrolucidata a < 5 micro‑inch Ra
• Materiali del diaframma: Hastelloy C‑22 o superleghe a base di cobalto (UNS R30003)
• Materiale / design della sede: Sede PCTFE completamente contenuta
• Architettura: Cavità interna bagnata a volume morto zero
• Gestione sala bianca: Imballo doppio sigillato; adatto allo scarico in Classe 100 e assemblaggio ad alta pulizia
• Opzioni di connessione: Orbital butt‑weld o VCR face‑seal (raccomandato)
• Test: Prove di decadimento del vuoto e spettrometro di massa all’elio; test all’elio prima della spedizione
• Note operative: Progettata per linee riscaldate; verificare la copertura uniforme della giacca riscaldante e non superare la temperatura massima