Sistema di pulizia per wafer

ad acquaautomaticoper l'industria dei semiconduttori

I wafer puliti sono la base per prodotti semiconduttori eccellenti. Il sistema di pulizia finale RENA, completamente automatizzato, fornisce superfici di altissima qualità per l'ultima fase di wafering. I processi sofisticati e la programmazione avanzata ne fanno la soluzione perfetta per la produzione di wafer di semiconduttori con un'elevata produttività e requisiti impegnativi. Caratteristiche e vantaggi Pulizia superficiale superiore per wafer fino a 300 mm Movimentazione completamente automatizzata senza carrier o con carrier LMC Finitura perfetta con l'essiccatore RENA Marangoni Interfacce SEMI standard per una facile integrazione nella fabbrica