Wet bench a immersione Advancer

batchper semiconduttoreper wafer

Per il trattamento a umido in un'unica fase di wafer di semiconduttori, RENA offre la famiglia semiautomatica "Advancer". Queste apparecchiature a immersione sono robuste, collaudate sul campo e altamente configurabili con un ingombro notevolmente ridotto. gli "Advancer" sono la soluzione ideale per i processi di incisione, pulizia e rigatura delle superfici dei semiconduttori in un unico passaggio. La famiglia "Advancer" è composta da tre piattaforme: Micro, Classic e Gemini. I modelli "Advancer Micro" e "Advancer Classic" sono dotati di una vasca di processo e di una vasca di risciacquo con robot lineare laterale per processi a passo singolo. Advancer Gemini" è un banco a umido a doppio processo e doppio robot ed è una delle piattaforme più economiche disponibili. Advancer Gemini può essere utilizzato per raddoppiare la capacità di lavorazione o per eseguire fasi di processo sequenziali con ingombri e costi ridotti. I sistemi RENA offrono un eccellente controllo e monitoraggio del processo grazie al software IDX Flexware, con caratteristiche e funzionalità vantaggiose. Tutti i sistemi RENA sono di facile manutenzione e conformi all'interfaccia SECS/GEM dell'host di fabbrica. Caratteristiche e vantaggi Capacità di asciugatura a secco Processo e risciacquo a fase singola Gestione di cassette singole o doppie dimensioni dei wafer da 50 mm a 200 mm lavorazione di 150 e 200 mm senza modifiche Software di controllo del processo IDX Flexware HMI touchscreen intuitivo Robot montato lateralmente e altamente manutenibile Opzioni di interfaccia SECS/GEM Flessibile e aggiornabile Su misura per le specifiche del cliente