Sistema a fascio ionico focalizzato GCIB 10S

Il GCIB 10S è stato progettato per ottenere prestazioni di profilatura di profondità all'avanguardia in combinazione con XPS e altri sistemi di analisi delle superfici. I fasci ionici a grappolo consentono l'analisi del profilo di profondità dei polimeri con una perdita minima di informazioni chimiche dovuta al danneggiamento del fascio ionico. Ciò è fondamentale nell'analisi delle moderne strutture multistrato, come negli OLED, nei dispositivi medici biologici, nei rivestimenti sensibili o in altre superfici polimeriche, ma mostra anche un netto miglioramento nell'analisi di materiali consolidati che possono degradarsi durante la normale profilatura con l'Ar1. Oltre ad utilizzare la sorgente ionica ad argon cluster in combinazione con i nuovi sistemi XPS, il GCIB 10S può anche essere facilmente integrato in sistemi UHV esistenti con una flangia NW63CF adatta a puntare il campione. Fornisce un mezzo economico per aggiornare XPS, SIMS o altri sistemi per utilizzare il cluster beam sputtering per la pulizia del campione o l'analisi del profilo di profondità.