Allineatore di maschera per substrato di grandi dimensioni
completamente automaticoper la produzione

Allineatore di maschera per substrato di grandi dimensioni - SEIWAOPTICAL - completamente automatico / per la produzione
Allineatore di maschera per substrato di grandi dimensioni - SEIWAOPTICAL - completamente automatico / per la produzione
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Caratteristiche

Specificazioni
completamente automatico, per la produzione, per substrato di grandi dimensioni

Descrizione

Panoramica
Progettato per l'esposizione del vetro ad alta definizione, questo sistema integra un sistema ottico UV ottimizzato per esposizioni ad alta risoluzione e un meccanismo di parallelizzazione ad alta precisione tra fotomaschera e substrato. Funzionamento completamente automatico con modalità di esposizione: contatto a vuoto, contatto morbido e gap di prossimità. Configurazioni verticale e orizzontale per diverse dimensioni di maschera: verticale per maschere grandi (G5 e superiori), orizzontale per G4.5 o inferiori.

Uso
Adatto per il trattamento del vetro nelle linee di produzione FPD (flat panel display), TP (touch panel) e CF (cell fabrication).

Specifiche
  • Dimensione substrato disponibile: G4.5 - G8.5
  • Precisione di allineamento: ±1 μm
  • Modalità di esposizione: contatto a vuoto, contatto morbido, gap di prossimità


Caratteristiche principali
  • Sistema ottico UV ottimizzato per esposizione ad alta definizione
  • Meccanismo di parallelizzazione ad alta precisione per fotomaschera e substrato
  • Funzionamento completamente automatico con modalità di esposizione selezionabili
  • Configurazioni: verticale (raccomandata per G5+) e orizzontale (raccomandata per G4.5 o inferiori)
  • Progettato per integrazione in linee industriali FPD/TP/CF
Ricerche correlate
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.