PanoramicaProgettato per l'esposizione del vetro ad alta definizione, questo sistema integra un sistema ottico UV ottimizzato per esposizioni ad alta risoluzione e un meccanismo di parallelizzazione ad alta precisione tra fotomaschera e substrato. Funzionamento completamente automatico con modalità di esposizione: contatto a vuoto, contatto morbido e gap di prossimità. Configurazioni verticale e orizzontale per diverse dimensioni di maschera: verticale per maschere grandi (G5 e superiori), orizzontale per G4.5 o inferiori.
UsoAdatto per il trattamento del vetro nelle linee di produzione FPD (flat panel display), TP (touch panel) e CF (cell fabrication).
Specifiche- Dimensione substrato disponibile: G4.5 - G8.5
- Precisione di allineamento: ±1 μm
- Modalità di esposizione: contatto a vuoto, contatto morbido, gap di prossimità
Caratteristiche principali- Sistema ottico UV ottimizzato per esposizione ad alta definizione
- Meccanismo di parallelizzazione ad alta precisione per fotomaschera e substrato
- Funzionamento completamente automatico con modalità di esposizione selezionabili
- Configurazioni: verticale (raccomandata per G5+) e orizzontale (raccomandata per G4.5 o inferiori)
- Progettato per integrazione in linee industriali FPD/TP/CF