Macchina di deposizione per polverizzazione catodica verticale in linea 2SV2215MR
per specchio

Macchina di deposizione per polverizzazione catodica verticale in linea - 2SV2215MR - Sidrabe Inc. - per specchio
Macchina di deposizione per polverizzazione catodica verticale in linea - 2SV2215MR - Sidrabe Inc. - per specchio
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Caratteristiche

Specificazioni
verticale in linea
Applicazioni
per specchio

Descrizione

Il sistema di sputtering verticale in linea 2SV2215MR è un sistema modulare flessibile destinato alla deposizione di stack multistrato mono e bifacciali su vetro piano. Il sistema in linea è utilizzato per la produzione di vetro architettonico, fotovoltaico, artistico e orticolo. Ingegneria e tecnologia Il sistema è progettato come una struttura singola con camere di chiusura, trasferimento e deposizione. Le stazioni robotizzate di carico e scarico del vetro e il magazzino di scambio dei supporti sono disposti sul lato di ingresso/uscita del sistema. La camera per il movimento trasversale delle cassette serve per il trasferimento del vetro dal percorso del flusso diretto al percorso del flusso posteriore per il rivestimento del secondo lato del vetro. Per il mantenimento e il trasferimento del vetro vengono utilizzati supporti personalizzati; il vetro viene posizionato verticalmente senza inclinazione. Il posizionamento verticale del vetro e dei magnetron garantisce una deposizione priva di particelle. Per il pretrattamento degli altri lati del vetro vengono utilizzate sorgenti di raggi ionici lineari (4 pezzi per ogni lato del vetro). Ogni camera di deposizione è suddivisa in due compartimenti isolati simili per il trasporto diretto e posteriore delle cassette per il rivestimento successivo di entrambi i lati del vetro. I compartimenti di sputtering sono dotati di magnetroni doppi rotanti ad alta velocità alimentati con alimentatori MF (13 magnetroni doppi per ogni lato di vetro). Ogni scomparto di deposizione è isolato da zone di separazione dei gas pompate. Canali PEM separati e collettori di alimentazione del gas a più sezioni per ogni doppio magnetron, nonché la misurazione in situ dei parametri ottici di ogni strato depositato, garantiscono un controllo ottimale del processo e l'uniformità di rivestimento richiesta.

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