Regolatore di portata a pressione differenziale GP200

massicoper gasanalogico

La serie GP200 è il primo regolatore di portata massica completamente insensibile alla pressione (P-MFC) progettato specificamente per i processi avanzati di incisione e deposizione nella produzione di semiconduttori. Il P-MFC della serie GP200 presenta un'architettura brevettata che supera le limitazioni dei P-MFC convenzionali per fornire l'erogazione di gas di processo più precisa anche quando si erogano gas di processo a bassa pressione di vapore. Include diversi aspetti di progettazione unici, tra cui un sensore di pressione differenziale integrato accoppiato a un'architettura di valvola a valle che consente l'erogazione di gas di processo più precisa nella più ampia gamma di condizioni operative del settore. Poiché la serie GP200 supporta una gamma così ampia di condizioni di processo, può essere utilizzata come sostituzione e aggiornamento per molte P-MFC e MFC termiche tradizionali. Riduce la complessità e il costo di proprietà del sistema di erogazione del gas perché elimina la necessità di componenti come regolatori di pressione e trasduttori. Ottieni maggiori dettagli sul design della serie GP200 e guarda come funziona. Caratteristiche Vera misurazione della pressione differenziale Funzionamento a bassa pressione d'ingresso Architettura della valvola a valle Risposta transitoria adattata Valvola di controllo a zero perdite La tecnologia MultiFloTM offre una flessibilità senza precedenti: un solo dispositivo può essere programmato per migliaia di configurazioni di gas e portate diverse senza rimuovere l'MFC dalla linea del gas o compromettere la precisione Il display locale indica flusso, temperatura, pressione e indirizzo di rete Interfacce DeviceNetTM, EtherCAT®, RS-485 L-Protocol e analogiche