Misuratore termico di portata massica GF 125

a pressione differenzialemassicoper gas

Risposta rapida, erogazione ripetibile di gas di processo con livelli di purezza elevati e altissimi: ecco le prestazioni della serie GF100 di controllori e misuratori di portata massica a tenuta metallica. Progettata per applicazioni di controllo del flusso di gas nei semiconduttori, MOCVD e altre applicazioni, la serie GF100 supera gli standard di affidabilità del settore dei semiconduttori, garantendo prestazioni ripetibili e altamente stabili nel tempo. La tecnologia MultiFloTM standard consente a un unico MFC di supportare migliaia di tipi di gas e combinazioni di intervalli senza doverlo rimuovere dalla linea del gas o compromettere la precisione. Il risultato è una maggiore flessibilità ed efficienza del processo, combinata con i più alti livelli di purezza dei gas di processo del settore, per contribuire a massimizzare i rendimenti e la produttività. Caratteristiche Stabilità di zero a lungo termine <±0,5% di fondo scala all'anno Tempi di assestamento: 300 ms - <700 ms o 700 ms - <1 secondo Portate di fondo scala fino a 300 slpm Percorso di flusso con guarnizione interamente metallica: opzione per finitura superficiale da 4µ o 10µ pollici Ra Il sensore Hastelloy® T-Rise resistente alla corrosione migliora la riproducibilità delle misure a temperature elevate Programmazione del gas e del campo di misura MultiFloTM: un solo dispositivo, migliaia di tipi di gas e combinazioni di campo di misura senza rimuovere l'MFC dalla linea del gas o compromettere la precisione Display locale Erogazione di gas SDS opzionale Interfacce DeviceNetTM, RS-485 L-Protocol e analogiche Vantaggi Maratona di componenti ad alte prestazioni testata a sette volte gli standard del settore dei semiconduttori per l'affidabilità Il percorso di flusso interamente in metallo, resistente alla corrosione, con area superficiale ridotta e volumi non spazzati, garantisce una più rapida essiccazione durante le fasi di spurgo Con MultiFloTM, è possibile impostare nuovi gas di processo e/o intervalli in meno di 60 secondi, senza dover più smontare e calibrare