Percorso di flusso ad alta purezza. Prestazioni, affidabilità e ripetibilità eccezionali.
Risposta rapida, erogazione ripetibile di gas di processo con livelli di purezza elevati e ultra elevati: ecco le prestazioni della serie GF100 di controllori e misuratori di portata massica a tenuta metallica. Progettata per applicazioni di controllo del flusso di gas nei semiconduttori, MOCVD e altre applicazioni, la serie GF100 supera gli standard di affidabilità del settore dei semiconduttori, garantendo prestazioni ripetibili e altamente stabili nel tempo. La tecnologia MultiFloTM standard consente a un unico MFC di supportare migliaia di tipi di gas e combinazioni di intervalli senza doverlo rimuovere dalla linea del gas o compromettere la precisione.
Il risultato è una maggiore flessibilità ed efficienza del processo, combinata con i più alti livelli di purezza dei gas di processo del settore, per contribuire a massimizzare i rendimenti e la produttività.
Caratteristiche
- Stabilità di zero a lungo termine <±0,5% di fondo scala all'anno
- Tempi di assestamento: 700 ms - <1 secondo
- Percorso di flusso a tenuta interamente metallica: opzione per finitura superficiale da 4µ o 10µ pollici Ra
- Il sensore Hastelloy® T-Rise resistente alla corrosione migliora la riproducibilità delle misure a temperature elevate
- Programmabilità del gas e del campo di misura MultiFloTM: un solo dispositivo, migliaia di tipi di gas e combinazioni di campi di misura senza rimuovere l'MFC dalla linea del gas o compromettere la precisione
- Display locale
- Erogazione di gas SDS opzionale
- Interfacce DeviceNetTM, RS-485 L-Protocol e analogiche
Vantaggi
Maratona di componenti ad alte prestazioni testata a sette volte gli standard del settore dei semiconduttori per l'affidabilità
Il percorso di flusso interamente in metallo, resistente alla corrosione, con area superficiale ridotta e volumi non spazzati, garantisce una più rapida asciugatura durante le fasi di spurgo
---