Misuratore termico di portata massica 4800 series

massicoper gasin acciaio inossidabile

Risposta ultraveloce per i processi di flusso critici in termini di tempo. Quanto più velocemente rispondono i controllori e i misuratori di portata massica termica, tanto più efficienti e produttivi possono essere i vostri processi. Questo è il vantaggio principale dei regolatori e misuratori della Serie 4800: Un sensore termico avanzato basato su MEMS, unito a un algoritmo PID proprietario che ottimizza la risposta della valvola di controllo, consente ai regolatori selezionati della Serie 4800 di adeguare rapidamente il flusso di massa effettivo a qualsiasi modifica del set point. L'interfaccia operatore locale (LOI) opzionale fornisce una comoda interfaccia utente per visualizzare, controllare e configurare i dispositivi, eliminando la necessità di un'elettronica secondaria remota. Caratteristiche - Tempo di risposta del flusso (tempo di assestamento) <0,75 secondi - Innovativo sensore MEMS e algoritmo PID proprietario - Le dimensioni compatte sono meno della metà di quelle dei tipici MFC termici: 1" x 3" x 4" (25 mm x 76 mm x 101 mm) - L'interfaccia operatore locale (LOI) opzionale semplifica l'impostazione e il funzionamento; download gratuito del VI LabVIEW per il monitoraggio e l'azzeramento del dispositivo - Capacità digitale tramite RS-232 Vantaggi - Adatto a un'ampia gamma di gas comuni e non corrosivi - Il rapido tempo di risposta garantisce fasi rapide durante i cambi di ricetta del processo - Eccellente per gli OEM: Le dimensioni compatte facilitano l'integrazione in spazi ristretti e velocizzano l'installazione - L'interfaccia operatore locale (LOI) opzionale è una soluzione chiavi in mano per l'indicazione locale, il controllo del set point e la configurazione del dispositivo; elimina la necessità di un'elettronica secondaria remota - La varietà di opzioni di comunicazione facilita l'allineamento con i requisiti dell'utente Applicazioni Trattamento termico, taglio/saldatura e altri processi termici Sistemi di deposizione fisica del vapore (PVD) a film solare/sottile