Macchina di deposizione per polverizzazione catodica a magnetron DEIMOS 5500

per specchio

Panoramica
Il DEIMOS 5500 è un sistema di deposizione in vuoto per ottica di precisione basato su sputtering magnetronico, progettato per applicare strati protettivi e di potenziamento in alluminio o argento su grandi specchi astronomici, garantendo elevata riflettanza, uniformità e durabilità dei rivestimenti.

Vantaggi principali

• Elevata uniformità di rivestimento — inclinazione e distanza dei target regolabili elettricamente per l'adattamento a substrati curvi, assicurando strati Al/Ag protetti o potenziati uniformi.
• Gestione rapida dei substrati — sistema su binari che consente lo spostamento della metà inferiore della camera fuori dal telaio per accesso completo e rapido cambio del substrato.
• Modalità di alimentazione flessibili — quattro target di sputtering con opzioni DC pulsata o DC per soddisfare i requisiti del processo.

Caratteristiche principali

• Inclinazione della catodo mobile — ogni target è traslabile e inclinabile; attuatori elettrici garantiscono posizionamenti ripetibili e le impostazioni possono essere salvate nelle ricette di produzione.
• Pre-pulizia con scarica MF o DC — unità di scarica integrate per la pulizia controllata della camera e la rimozione dell'umidità; i cicli possono essere memorizzati nelle ricette.
• Design accessibile — la metà inferiore della camera su binari semplifica l'accesso a substrati, target e componenti, soprattutto per grandi diametri (fino a 4,5 m), agevolando esercizio e manutenzione.

Applicazioni
Progettato per il rivestimento di specchi astronomici e altri specchi ottici di precisione di grandi dimensioni con strati di alluminio o argento protetti o potenziati dove riflettanza, uniformità e durabilità sono requisiti fondamentali.

Caratteristiche / specifiche tecniche

• Modello: DEIMOS 5500
• Processo: sputtering magnetronico / deposizione in vuoto per ottica di precisione
• Materiali di rivestimento: alluminio (Al) e argento (Ag) — strati protetti e potenziati
• Numero di target: 4
• Opzioni di alimentazione: DC pulsata o DC
• Regolazione dei target: inclinazione e distanza target-substrato regolabili elettricamente; posizioni salvabili nelle ricette
• Pre-pulizia: unità di scarica MF o DC integrate per rimozione dell'umidità e pulizia; cicli salvabili
• Gestione substrati: metà inferiore della camera su binari per accesso completo e cambio rapido
• Diametro massimo del substrato supportato: fino a 4,5 m
• Uso previsto: specchi astronomici e ottica di precisione con requisiti di riflettanza, uniformità e durabilità
• Operazioni e manutenzione: accesso facilitato a target, substrati e componenti per manutenzione semplificata e ripetibilità tramite ricette